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設(shè)備說明：
　　磁控濺射真空鍍膜機(jī)是立式單開門非平衡磁控反應(yīng)濺射鍍膜機(jī)。此設(shè)備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應(yīng)用于手表、眼鏡、通訊、電子、機(jī)械、裝飾和交通航空等領(lǐng)域的高檔裝飾和功能性薄膜。
主要特點(diǎn)：
1、 沉積速率快，溫升小，能較好的抑制打火及靶中毒現(xiàn)象；
2、 濺射釋放的高能量使膜層密度和附著力有顯著提高；
3、 觸摸屏幕+PLC，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制，自動(dòng)/手動(dòng)隨時(shí)切換；
4、 鍍膜室容積大，裝載量大，生產(chǎn)效率高。
5、 工件架采用公自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，可設(shè)置自動(dòng)正反轉(zhuǎn)，產(chǎn)品均勻性好；
6、 整機(jī)配置合理，抽氣速率快，噪聲小，耗能低；
基本配置：
1、 鍍膜室、閥門、管道均采用不銹鋼制造，立式、單開門結(jié)構(gòu)，真空室有效直徑自Φ1000mm－Φ1800mm；
2、 真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、旋片泵、羅茨泵和帶冷阱高真空油擴(kuò)散泵或分子泵組成；
3、 鍍膜系統(tǒng)采用2~8套平面靶或柱靶，配有2~8個(gè)直流電源或中頻電源；
4、 輔助抽氣系統(tǒng)采用一臺(tái)低溫水汽捕集器；
5、 充氣系統(tǒng)采用1~4路氣體流量計(jì)及流量控制（顯示）儀控制；
6、 電控系統(tǒng)設(shè)置電路過載、斷水、斷氣聲光報(bào)警裝置；
7、 控制系統(tǒng)（觸摸屏+PLC），實(shí)時(shí)顯示詳細(xì)參數(shù)，全自動(dòng)控制整個(gè)生產(chǎn)過程，并自動(dòng)存儲(chǔ)工藝參數(shù)；
8、 可根據(jù)客戶要求配多套靶源。
技術(shù)參數(shù)：